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北大攻克光刻胶关键技术，芯片国产化再进一步

一片小小的芯片，竟卡住了全球科技的脖子。而制造芯片最关键的“墨水”——光刻胶，其核心技术长期被日美企业垄断。如今，北京大学的一则重磅突破，正在为这道坚冰带来裂痕。

光刻胶（Photoresist）是一种用于半导体制造中的关键材料，它在光刻工艺中起到了重要的作用。光刻胶是一种特殊的敏化树脂，能够对紫外光或电子束等辐射进行化学反应，形成可控的图案。

11月Google Pixel设备更新即将推出新功能，包括“主题包”和其他增强功能。泄露的图像显示，Pixel Tips应用程序将引入三种新功能：Pixel主题包、Pixel Studio动画和Pixel VIP通知。其中，Pixel主题包允许用户一键自定义设

国家标准委网站显示，我国首个EUV光刻胶标准——《极紫外（EUV）光刻胶测试方法》作为拟立项标准，10月23日开始公示，截止时间为11月22日。标准的起草单位包括上海大学、张江国家实验室、上海华力集成电路制造有限公司、上海微电子装备（集团）股份有限公司。作为我